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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种气浴模块、气浴装置、光刻设备及该气浴装置的控制方法。该气浴模块包括具有豁口结构的环体，环体围绕曝光区域设置，且环体的内部设有流道，沿环体的周向，环体上还设有出气面，出气面为环体的顶面和/或环体的内周面，出...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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