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本发明公开了等离子晶圆处理装置，中央气体通道的反应腔内出气口的喷气方向正对放置于基座上的晶圆上表面中心，周边气体通道的反应腔内出气口的喷气方向正对放置于基座上的晶圆上表面边缘，增加质量流量计检测设定气体通道的反应气体流量，处理器根据质量流量...
该专利属于宸微设备科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宸微设备科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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