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本发明涉及基板处理装置。本发明提供一种基板处理装置，其包括：第一工艺腔室，其用于执行基板的第一处理工艺；第二工艺腔室，其用于执行基板的第二处理工艺；共同排出通道，其用于排出从所述第一工艺腔室排出的第一工艺气体和从所述第二工艺腔室排出的第二工...
该专利属于盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司授权不得商用。

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