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实施方式提供一种良率得到提高的存储器装置。实施方式的存储器装置具备：第1积层体，包含沿第1方向排列且相互分开地设置的多个第1绝缘体层；第2积层体及第3积层体，分别包含多个导电体层，且相互分开地设置，所述多个导电体层与多个第1绝缘体层分别在同...
该专利属于铠侠股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。

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