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本发明提供热处理装置，提供能够提高热处理的均匀性的技术。本公开的一技术方案的热处理装置具备：处理容器，具有下端开口的有顶的圆筒形状，在内部形成第1空间；盖，封闭下端的开口；支承部，贯穿盖地设置，支承部具有轴部和位于轴部的上部的载置部；晶圆舟...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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