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本申请公开了一种异质集成结构及制备方法，包括提供第一衬底，所述第一衬底包括光电层、光学隔离层和基底，所述光学隔离层位于所述基底与所述光电层之间；在所述光电层背离所述光学隔离层的表面形成光场调控层；所述光电层和所述光场调控层中二者择一的热光系...
该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。

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