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提供减少在等离子处理装置的维护后产生的异物从而能在短时间内实现能产品开工的状态的等离子处理方法。对样品进行等离子处理的等离子处理方法在对所述样品进行等离子处理的处理室的维护后具有：扫出工序，扫出异物；沉积工序，在扫出工序后，使沉积膜沉积于处...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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