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一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D、D’)的粒子束诱导处理的方法，其包括下列步骤：a)提供(S1)该光掩模(100)的至少一部分的图像(300)；b)确定(S2)该图像(300)中的该缺陷(D、D’)的几何形状是否为修复形状(302、...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D、D’)的粒子束诱导处理的方法，其包括下列步骤：a)提供(S1)该光掩模(100)的至少一部分的图像(300)；b)确定(S2)该图像(300)中的该缺陷(D、D’)的几何形状是否为修复形状(302、...