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半导体加工电路、方法、装置、设备及介质制造方法及图纸
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文档序号:40287502
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本申请属于半导体技术领域,尤其涉及一种半导体加工电路、方法、装置、设备及介质,电路包括等离子体反应腔;能源电路;射频源;以及,控制器,用于根据射频源输入至等离子体反应腔的实际直流分量和待加工工艺的理论直流分量调整射频源的输出,以补偿实际直流...
该专利属于上海励兆科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海励兆科技有限公司授权不得商用。
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