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干湿双层抗蚀剂制造技术
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文档序号:40279617
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一种对衬底进行图案化的方法,包括在衬底上形成多层光刻胶堆叠体。多层光刻胶堆叠体包括通过气相沉积而沉积的干式光刻胶层,该干式光刻胶层位于通过旋涂沉积而沉积的湿式光刻胶层之上。通过曝光于第一波长的第一光化辐射图案并使用第一显影工艺对湿式光刻胶层...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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