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本发明涉及等离子体处理装置。高精度地控制等离子体处理容器内的排气压力。提供一种等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置具备：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于等离子体处理容器内；可动构件和静止构件，它们配置于基板支承部的周围，可动构件...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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