等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及等离子体处理装置。高精度地控制等离子体处理容器内的排气压力。提供一种等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置具备：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于等离子体处理容器内；可动构件和静止构件，它们配置于基板支承部的周围，可动构件具有多个动叶片，多个动叶片能够旋转，静止构件具有多个静叶片，多个动叶片和多个静叶片沿着等离子体处理容器的高度方向交替地排列，在可动构件和静止构件的下方形成有排气空间；第1驱动部，其构成为使可动构件旋转；压力调整构件，其以能够移动的方式配置于基板支承部的周围、且是可动构件和静止构件的上部；以及第2驱动部，其构成为使压力调整构件移动。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及等离子体处理装置。

技术介绍

1、例如，专利文献1提案有一种在配置于处理容器内的基板支承部的周围多层地配置有多个动叶片和多个静叶片的装置。在多个动叶片和多个静叶片的下方形成有排气空间，动叶片能够旋转。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2019－102680号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开提供一种能够高精度地控制等离子体处理容器内的排气压力的技术。

3、用于解决问题的方案

4、根据本公开的一技术方案，提供一种等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置具备：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于所述等离子体处理容器内；可动构件和静止构件，它们配置于所述基板支承部的周围，所述可动构件具有多个动叶片，所述多个动叶片能够旋转，所述静止构件具有多个静叶片，所述多个动叶片和所述多个静叶片沿着所述等离子体处理容器的高度方向交替地排列，在所述可动构件和所述静止构件的下方形成有排气空间；第1驱动部，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子体处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

6.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

8.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

9.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

10...

【技术特征摘要】

1.一种等离子体处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

6.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

8.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

9.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

10.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，

11.一种等离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：茂山和基，酒井让，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：