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本发明公开了一种研磨液防溅装置、化学机械研磨系统及化学机械抛光方法。该装置包括研磨台和环绕设置于所述研磨台外周的防溅挡板;所述研磨台的边缘设置至少一个清洗部件;所述至少一个清洗部件适于随所述研磨台转动从而清洁所述防溅挡板表面的研磨液。本发明...该专利属于格科半导体(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过格科半导体(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种研磨液防溅装置、化学机械研磨系统及化学机械抛光方法。该装置包括研磨台和环绕设置于所述研磨台外周的防溅挡板;所述研磨台的边缘设置至少一个清洗部件;所述至少一个清洗部件适于随所述研磨台转动从而清洁所述防溅挡板表面的研磨液。本发明...