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提供了用于从掩模版去除热量的系统、设备以及方法。示例性方法可以包括由冷却控制器基于通过照射由掩模版台支撑的掩模版上的曝光区域而形成的经图案化的辐射束的投影的定时数据、曝光区域的吸收数据以及目标传热率生成冷却控制信号。冷却控制信号可以指示掩模...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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