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设置于进行等离子体处理的处理室的内壁的内壁构件(40)具备基材(41)、阳极氧化膜(42a)以及喷镀膜(42b)。基材(41)具有表面(FS1)、位于比表面(FS1)高的位置的表面(FS2)以及侧面(SS1)。内壁构件(40)的再生方法包括...
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