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本文提供的实施例通常包括用于在处理腔室中对基板进行等离子体处理的装置(例如，等离子体处理系统)和方法。一些实施例针对射频(RF)产生系统。RF产生系统通常包括RF发生器和真空断路器，所述真空断路器被配置为基于与等离子体腔室的操作相关联的故障...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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