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本发明属于硬脆材料研磨抛光技术领域，具体涉及一种SiC陶瓷平面非连续性剪切增稠研抛一体抛光垫，包括自下而上依次设置的附着部、支撑部和基材部，所述基材部上布满抛光孔，所述基材部上的抛光孔按照向日葵籽粒结构的叶序形式排布。本发明的有益效果是：填...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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