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本公开所涉及的清洁方法包括第一清洁工序和第二清洁工序，所述第一清洁工序包括以下工序：向腔室内供给第一处理气体；以及在由载置区域和电极规定的空间中，从所述第一处理气体生成第一等离子体来对所述载置台中的包括所述载置区域的区域进行清洁，所述第二清...
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