下载半导体加工用保护片及半导体装置的制造方法的技术资料

文档序号:40131428

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的技术问题在于:提供一种即使在通过DBG等对晶圆进行薄化加工的情况下,加工晶圆时所产生的静电也会充分地受到抑制,且在进行剥离时,芯片的裂纹的产生受到抑制的半导体加工用保护片;以及提供一种使用了该半导体加工用保护片的半导体装置的制造方法...
该专利属于琳得科株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过琳得科株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。