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本发明提供了一种用于带电粒子系统的带电粒子光学设备。该设备朝向样品投射带电粒子束阵列。该设备包括用以控制束阵列的参数的控制透镜阵列；以及用以将束阵列投射到样品上的物镜阵列，物镜阵列在控制透镜的束下游。物镜阵列包括：上部电极；以及包括束上游电...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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