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本发明公开了一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用，本发明的抛光组合物，包括水、磨料和氟离子速率促进剂，所述抛光组合物的ｐＨ值为碱性，且金属杂质含量在１００ｐｐｍ以下。本发明的抛光组合物能显著提高抛光速率与表面质量，提高生产效率...
该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。

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