温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

披露了一种从目标测量重叠或聚焦参数的方法和相关联的量测设备。所述方法包括通过以下操作来配置测量辐射以获得所述测量辐射的经配置的测量光谱：对所述测量辐射的多个单独的波长带施加强度加权，使得所述多个单独的波长带具有与所述强度加权一致的强度，所述...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。