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本技术涉及一种高电压低导通电阻的N型超结功率MOSFET器件,包括p型衬底,所述p型衬底的左上方设有p‑阱区,所述p‑阱区的上方设有p+区和第一n+区,所述p+区和所述第一n+区相邻设置,且第一n+区的右侧被所述p‑阱区包覆,所述p+区和所...该专利属于福建康博电子技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过福建康博电子技术股份有限公司授权不得商用。
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本技术涉及一种高电压低导通电阻的N型超结功率MOSFET器件,包括p型衬底,所述p型衬底的左上方设有p‑阱区,所述p‑阱区的上方设有p+区和第一n+区,所述p+区和所述第一n+区相邻设置,且第一n+区的右侧被所述p‑阱区包覆,所述p+区和所...