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一种用于沉积材料的等离子体气相沉积(PVD)腔室包括用于在沉积期间影响基板边缘区域中的离子轨迹的设备。该设备包括反射器组件及多个永磁体，该反射器组件围绕基板支撑件并被配置为在沉积于基板上的材料回流期间将热反射到基板，该多个永磁体嵌入反射器组...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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