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一种制造半导体元件的方法包含：通入第一气体至容纳基材的腔体中，其中第一气体不与基材反应；通入第二气体至腔体中，其中第一气体与第二气体产生第一反应，且第一反应形成第一膜层在基材上；以及自腔体移除第一气体与第二气体。...
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