温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种制造集成电路器件的方法，可以包括：在衬底之上形成多个下电极；形成被配置为支撑多个下电极的支撑体；在多个下电极和支撑体上形成介电膜；以及在介电膜上形成上电极。介电膜可以包括在多个下电极的每个的外表面和支撑体的外表面上的下泄漏电流防止层、在...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。