温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了一种用于相对于金属氮化物蚀刻金属碳化物的连续或循环蚀刻方法。该蚀刻方法包括以下步骤：将由包含N<subgt;2</subgt;和H<subgt;2</subgt;且不包含包括氟、氯、溴和碘的卤素气体的气体混合物...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。