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本发明揭示了一种基板处理设备，包括工艺腔室、基板托盘、兆声波发射装置和清洗装置，基板托盘设置于工艺腔室内，基板托盘用于承载基板；兆声波发射装置用于对兆声波发射装置和基板之间的化学液传递兆声波能量；清洗装置用于清洗兆声波发射装置，清洗装置包括...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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