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本申请涉及一种靶材原位监控方法、系统、计算机设备和存储介质，将靶材和溅射设备首次配合使用时采集到的电压电流参数和靶材厚度间的对应关系进行记录，建立监测反馈机制。靶材原位监控方法包括：在溅射设备中建立自检程序，所述自检程序包括依次进行的多个沉...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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