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本发明涉及一种自组装单分子膜去除液、以及使用其的基板处理方法及基板处理装置。本发明是一种自组装单分子膜去除液，其用于选择性地去除设置在基板表面的自组装单分子膜，且所述自组装单分子膜去除液的汉森溶解度参数位于在汉森溶解度参数空间上由中心值(δ...
该专利属于株式会社斯库林集团所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社斯库林集团授权不得商用。

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