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本发明公开了一种流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法。具体地，公开了一种用于浸没式光刻设备的流体处理系统，其具有用以从浸没空间中去除浸没液体的流体去除装置，和用以去除浸没液体的液滴的液滴去除装置，其中：液滴去除装置比流体去除装置远离...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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