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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:39830296
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本公开涉及一种半导体器件及其制造方法,其中公开了一种分栅结构的改进功率MOSFET,分栅结构包括在沟槽中的栅极电极和场板电极。改进功率MOSFET包括形成在沟槽TR的下部处的场板电极FP,并且包括形成在沟槽TR的上部处的栅极电极GE。场板电...
该专利属于瑞萨电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过瑞萨电子株式会社授权不得商用。
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