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本发明的目的在于提供提高成品率的等离子体处理装置。等离子体处理装置具备：试样台基座，其配置于试样台的外周；压力传感器，其经由连结管和缓冲部而连接于试样台基座；加热器，其以使连结管、所述缓冲部的温度随着趋向所述压力传感器而变高的方式形成温度梯...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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