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掩膜版图的形成方法、存储介质及终端技术
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文档序号:39051256
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一种掩膜版图的形成方法、存储介质及终端,其中形成方法包括:建立直径尺寸为的晶圆图形;调入基础曝光区域图形;获取基础曝光区域图形的宽度尺寸和长度尺寸;根据晶圆图形的直径尺寸、基础曝光区域图形的宽度尺寸和长度尺寸,获取掩膜版图沿第一方向和第二方...
该专利属于常州承芯半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过常州承芯半导体有限公司授权不得商用。
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