下载掩膜版图的形成方法、存储介质及终端的技术资料

文档序号:39051256

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种掩膜版图的形成方法、存储介质及终端,其中形成方法包括:建立直径尺寸为的晶圆图形;调入基础曝光区域图形;获取基础曝光区域图形的宽度尺寸和长度尺寸;根据晶圆图形的直径尺寸、基础曝光区域图形的宽度尺寸和长度尺寸,获取掩膜版图沿第一方向和第二方...
该专利属于常州承芯半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过常州承芯半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。