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一种静电掺杂隧穿场效应晶体管制造技术
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文档序号:39048904
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本发明提出了一种静电场掺杂隧穿场效应晶体管,通过在源区和漏区上的氧化层上淀积不同的金属材料形成偏置电极,并施加一定的偏置电压,利用电极偏置原理,在源区和漏区感生大量电子或空穴,形成N型或P型掺杂,利用双栅结构控制器件沟道的开启和关断。开启状...
该专利属于集美大学所有,仅供学习研究参考,未经过集美大学授权不得商用。
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