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本发明涉及一种用于制造用于微光刻的投射曝光设备(1)的反射镜(26)的方法，其中，提供至少一个坯料(34)，该坯料由具有非常低的热膨胀系数的材料构成并且具有断裂带(33)，在该断裂带内，至少一个材料参数与指定值的偏差超过最小偏差。具有第一连...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本发明涉及一种用于制造用于微光刻的投射曝光设备(1)的反射镜(26)的方法，其中，提供至少一个坯料(34)，该坯料由具有非常低的热膨胀系数的材料构成并且具有断裂带(33)，在该断裂带内，至少一个材料参数与指定值的偏差超过最小偏差。具有第一连...