【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制造用于微光刻的投射照明系统的多部件反射镜的方法
[0001]本专利技术涉及制造用于微光刻的投射曝光设备的多部件反射镜的方法。本专利技术还涉及用于微光刻的投射曝光设备的多部件反射镜、照明光学单元、投射光学单元以及用于微光刻的投射曝光设备。
技术介绍
[0002]用于微光刻的投射曝光设备特别用于半导体的制造，并且通常具有照明光学单元和投射光学单元。照明光学单元由光源的光生成用于掩模母版照明的期望的光分布，掩模母版通常也称为掩模。在这种情况下，光应该被理解为电磁辐射的一般意义，也就是说，对具体波长没有限制。因此，在下文中，术语“光”和“辐射”被同义地使用，也就是说，光源也可以被称为辐射源，光分布也可以被称为辐射分布等等。利用投射光学单元，掩模母版被成像到光敏材料上，该光敏材料例如被施加到特别是半导体材料的晶片或一些其它衬底上。以这种方式，光敏材料以结构化的方式暴露于由掩模母版预先限定的图案。由于掩模母版具有微小的结构元件并且这些结构元件旨在以高精度被转印到衬底上，所以要求照明光学单元以精确且可再现的方式生成期望的光分布，并且要求...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制造用于微光刻的投射曝光设备(1)的反射镜(26)的方法，其中提供至少一个坯料(34)，所述坯料由具有非常低的热膨胀系数的材料构成并且具有断裂带(33)，在所述断裂带内，至少一个材料参数与指定值的偏差超过最小偏差，由所述坯料(34)制造具有第一连接表面(29)的第一反射镜部件(27)，由所述坯料(34)或另一坯料(34)制造具有第二连接表面(30)的第二反射镜部件(28)，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)在所述第一反射镜部件(27)的第一连接表面(29)和所述第二反射镜部件(28)的第二连接表面(30)的区域中永久地相互连接，基于一个或多个坯料(34)中所述断裂带(33)的空间构造来确定制造所述第一反射镜部件(27)的所述坯料(34)的体积区域和/或制造所述第二反射镜部件(28)的所述坯料(34)或另一坯料(34)的体积区域，其中，用于所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)的所述一个或多个坯料(34)的体积区域被选择为使得在所述第一反射镜部件(27)与所述第二反射镜部件(28)连接之后，所述断裂带(33)从所述第一反射镜部件(27)延续至所述第二反射镜部件(28)。2.一种用于制造用于微光刻的投射曝光设备(1)的反射镜(26)的方法，其中提供坯料(34)，所述坯料由具有非常低的热膨胀系数的材料构成并且具有断裂带(33)，在所述断裂带内，至少一个材料参数与指定值的偏差超过最小偏差，由所述坯料(34)制造具有第一连接表面(29)的第一反射镜部件(27)，由所述坯料(34)制造具有第二连接表面(30)的第二反射镜部件(28)，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)在所述第一反射镜部件(27)的第一连接表面(29)和所述第二反射镜部件(28)的第二连接表面(30)的区域中永久地相互连接，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)由所述坯料(34)的体积区域制成，所述体积区域通过用于制造所述第一反射镜部件(27)的增材和用于制造所述第二反射镜部件(28)的增材的总和而相互间隔开。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)至少在某些区域中沿着弯曲的分离表面(35)与所述坯料(34)分离。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，基于一个或多个坯料(34)中所述断裂带(33)的空间构造来确定所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)相互连接时的相对取向。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)由所述坯料(34)的横向偏移的体积区域制成。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一反射镜部件(27)和所述第二反射镜部件(28)由所述坯料(34)的相对于所述坯料(34)的外表面或轴线倾斜的体积区域制成。7...
【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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