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本申请提供一种掩膜图案的校正方法、装置及半导体设备，包括：获取掩膜的初始设计版图，初始设计版图包括多个图案；对每个图案进行处理，得到多个图形单元；在图形单元上设定评估点；获取图形单元上评估点的测量值；根据评估点的测量值和预设优化误差函数，调...
该专利属于中科晶源微电子技术（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中科晶源微电子技术（北京）有限公司授权不得商用。

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