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本申请提供一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备，应用于半导体和泛半导体制备技术领域，该掩模版组通过在工作掩模版和工作光源之间设置防护掩模版，并在工作掩模版和/或防护掩模版上设置透明加热系统，可显著减少到达工作掩模版的无效光刻能量，防止掩模...
该专利属于智慧星空（上海）工程技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过智慧星空（上海）工程技术有限公司授权不得商用。

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