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本发明提供能够高精度地获取喷嘴的状态的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：检查用基片，其包含基体部和配置于基体部的拍摄部；保持基片或检查用基片的保持部；对保持部进行旋转驱动的驱动部；处理液供给部，其包含对被保持部保持的基片释放处理...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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