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本发明提供能够抑制在晶片等基片形成的图案的塌坏的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置是使用超临界流体使在图案形成面形成有液膜的基片干燥的基片处理装置，其包括：处理容器，其收纳基片，并且超临界流体能够被供给到其中；和基片保持部，其以图案形...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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