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一种基板处理系统包括：一个或多个传输腔室；多个工艺腔室，连接至一个或多个传输腔室；以及计算设备，连接至多个工艺腔室中的每一者。所述计算设备用于：在第一工艺腔室内执行工艺期间或之后接收由第一工艺腔室的传感器产生的第一测量；基于使用第一经训练的...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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