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本发明提供一种能够实现处理的均匀性高于以往的喷淋头和基板处理装置。在该喷淋头（１００）的中央部设置有多个用于供给处理气体的中央侧气体喷出孔（１０）。另外，在喷淋头（１００）的周边部设置有多个用于供给处理气体的周边侧气体喷出孔（１１）。在中央...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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