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本实用新型的名称一种显影清洗装置。属于功率半导体器件生产设备技术领域。它主要是解决现有光学玻璃静态显影存在液体浸润速度较慢的问题。它的主要特征是：包括设备控制箱体及箱体内自上而下设置的控制部分、显影清洗部分和输入输出排管部分；所述控制部分包...
该专利属于湖北台基半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北台基半导体股份有限公司授权不得商用。

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