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本公开的实施例涉及在用于集成电路设计的光学接近度校正(OPC)流中对演进掩模形状的并行掩模规则检查。公开了并行执行掩模(制造)规则检查(MRC)、共享信息以在违规被纠正时保持对称性的系统和方法。在实施例中，共享信息还用于最小化由OPC引起的...
该专利属于辉达公司所有，仅供学习研究参考，未经过辉达公司授权不得商用。

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