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提供了集成电路封装件及其形成方法。在实施例中,器件包括:第一集成电路管芯;第二集成电路管芯;间隙填充电介质,位于第一集成电路管芯的第一侧壁和第二集成电路管芯的第二侧壁之间;保护盖,与间隙填充电介质、第一集成电路管芯的第一侧壁和第二集成电路管...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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