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本发明公开了一种改善磷化铟晶片表面质量的清洗方法，包括以下步骤：将抛光结束的磷化铟晶片浸于预清洗溶液中清洗；置于溢流槽中冲洗后甩干；浸于柠檬酸液中清洗；置于溢流槽中冲洗后浸泡于水中；单片浸于预清洗溶液中清洗后冲水；单片浸于稀硫酸液中清洗后冲...
该专利属于云南中科鑫圆晶体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过云南中科鑫圆晶体材料有限公司授权不得商用。

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