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本发明提供了一种半导体加工腔室和半导体加工设备，涉及芯片加工技术领域，为解决现有半导体加工腔室中反应腔室射频能量损耗和干扰的问题而设计。半导体加工腔室包括：由相对设置的腔底壁和腔体屏蔽罩形成的外腔体，位于外腔体内的至少一个反应腔室，与各个反...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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