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本文提供了用于处理基板的方法和装置。例如，被配置用于与等离子体处理腔室一起使用的匹配网络包括：输入端，所述输入端被配置为接收一个或多个射频(RF)信号；输出端，所述输出端被配置为将所述一个或多个RF信号递送至处理腔室；第一可变电容器，所述第...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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