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描述了一种用于源掩模优化(SMO)以提高图案化过程的扫描仪生产率的方法。所述方法包括：计算表示所述图案化过程的特性的设计变量的多变量成本函数。所述设计变量可以包括(a)作为所述照射源的特性的照射源变量，以及(b)作为所述设计布局的特性的设计...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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